Field guide to optical lithography
Edición de la obra Field guide to optical lithography
| Autor | Chris A. Mack |
|---|---|
| Editorial | SPIE Press, SPIE |
| Fecha de publicación | 2006 |
| Lugar | Bellingham, Wash |
| Idioma | inglés |
| LCCN | 2005034584 |
| Serie | SPIE field guides ; · FG06 |
| Número de Cutter | M153f |