X-ray diffraction at elevated temperatures
a method for in situ process analysis
Edición de la obra X-ray diffraction at elevated temperatures
| Autor | Deborah D. L. Chung |
|---|---|
| Editorial | VCH |
| Fecha de publicación | 1993 |
| Lugar | New York |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 268 |
| ISBN-10 | 0895737450, 3527278427 |
| OCLC | 26502034 |
| LCCN | 92021803 |
| Número de Cutter | C559x |