Plasma etching and reactive ion etching
Edición de la obra Plasma etching and reactive ion etching
| Autor | J. W. Coburn |
|---|---|
| Editorial | American Institute of Physics |
| Fecha de publicación | 1982 |
| Lugar | New York, N.Y |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 87 |
| ISBN-10 | 0883184060 |
| LCCN | 82073342 |
| Serie | American Vacuum Society monograph series |
| Número de Cutter | C658p |