Photomask technology 2007
18-21 September, 2007, Monterey, California, USA
Edición de la obra Photomask technology 2007
| Autor | Robert J. Naber, Hiroichi Kawahira |
|---|---|
| Editorial | SPIE |
| Fecha de publicación | 2007 |
| Lugar | Bellingham, Wash |
| Idioma | inglés |
| ISBN-13 | 9780819468871 |
| ISBN-10 | 0819468878 |
| OCLC | 186510143 |
| LCCN | 2011377574 |
| Serie | Proceedings of SPIE -- v. 6730 · Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering -- v. 6730. |