Photomask technology 2006
19-22 September, 2006, Monterey, California, USA
Edición de la obra Photomask technology 2006
| Autor | Symposium on Photomask Technology (26th 2006 Monterey, Calif.) |
|---|---|
| Editorial | SPIE |
| Fecha de publicación | 2005 |
| Lugar | Bellingham, Wash |
| Idioma | inglés |
| ISBN-13 | 9780819464446 |
| ISBN-10 | 0819464449 |
| LCCN | 2007271488 |
| Serie | SPIE proceedings series -- v. 6349 · Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering -- v. 6349. |
| Número de Cutter | S989p |