Optical microlithography IV
March 13-14, 1985, Santa Clara, California
Edición de la obra Optical microlithography IV
| Autor | SPIE |
|---|---|
| Editorial | SPIE--the International Society for Optical Engineering |
| Fecha de publicación | 1985 |
| Lugar | Bellingham, Wash., USA |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 260 |
| ISBN-10 | 0892525738 |
| OCLC | 12395158 |
| LCCN | 85061232 |
| Serie | Proceedings of SPIE--the International Society for Optical Engineering ; · v. 538 |
| Número de Cutter |