Chemical vapor deposition for microelectronics
principles, technology, and applications
Edición de la obra Chemical Vapor Deposition for Microelectronics
| Autor | Arthur Sherman |
|---|---|
| Editorial | Noyes Publications |
| Fecha de publicación | 1987 |
| Lugar | Park Ridge, N.J., U.S.A |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 215 |
| ISBN-10 | 0815511361 |
| OCLC | 15657978 |
| LCCN | 87011277 |
| Serie | Materials science and process technology series |
| Número de Cutter |