Atomic Layer Deposition
Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications
Edición de la obra Atomic layer deposition
| Autor | Tommi Kääriäinen, David Cameron, Marja-Leena Kääriäinen, Arthur Sherman |
|---|---|
| Editorial | Wiley & Sons, Incorporated, John |
| Fecha de publicación | 2013 |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 272 |
| ISBN-13 | 9781118747384 |
| Número de Cutter | K11a |