Advances in Research and Development
Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications
Edición de la obra Advances in research and development
| Autor | Maurice H. Francombe, John L. Vossen |
|---|---|
| Editorial | Elsevier Science & Technology Books |
| Fecha de publicación | 1997 |
| Idioma | inglés |
| ISBN-13 | 9780080542904 |
| Número de Cutter | F825a |