Advances in CMP Polishing Technologies
Edición de la obra Advances in CMP Polishing Technologies
| Autor | Toshiro Doi, Ioan D. Marinescu, Syuhei Kurokawa |
|---|---|
| Editorial | Elsevier Science & Technology Books |
| Fecha de publicación | 2011 |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 328 |
| ISBN-13 | 9781437778601 |
| Número de Cutter | D657a |