Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP)
Edición de la obra Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP)
| Autor | Suryadevara Babu |
|---|---|
| Editorial | Elsevier Science & Technology |
| Fecha de publicación | 2016 |
| Idioma | inglés |
| Páginas | 536 |
| ISBN-13 | 9780081002186 |
| Número de Cutter | B115a |